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可替代EUV光刻机工欧义艺直逼1.4nm 日本开发全新纳米压印技术

欧亿2026-03-03 15:04:49【休闲】6人已围观

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快科技12月18日消息，可替虽然在EUV光刻机上已经出局，光刻但日本依然是机工欧义全球第二大光刻机供应商，这几年日本公司也在憋足劲开发可替代EUV的艺直印技光刻方案，他们选择了NIL纳米压印技术路线。逼n本开

此前日本佳能、发全尼康等公司有过这种技术展示，新纳现在日本DNP公司（大日本印刷株式会社）也宣布开发出了10nm的米压NIL纳米压印技术，可以将电路图直接印在基板上，可替该技术可以用于1.4nm工艺的光刻欧义逻辑芯片曝光。

具体技术上，机工DNP的艺直印技10nm纳米压印技术采用SADP自对准双重图案技术，一次曝光+两次图案能够制造成双倍精度的逼n本开芯片，可以满足先进工艺逻辑芯片的发全要求，而且功耗优势明显，新纳DNP公司称其能耗只有当前主流工艺的1/10左右。

该公司已经研发NIL技术超过20年，目前的技术已经可以部分替代EUV光刻，为芯片制造商提供另一种高精度工艺生产的选择，现在已经在跟硬件供应商合作启动技术评估。

DNP公司预计在完成客户验证，建立量产和供应体系之后，预计2027年开始量产出货。

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责任编辑：宪瑞

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